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本發(fā)明涉及一種還原罐,特別是涉及。背景技術(shù)在金屬真空冶煉生產(chǎn)中,根據還原劑的不同, 一般要求還原反應溫度1000 1300'C,還原罐內部壓強小于13Pa。還原罐在高溫下

摘要 本實(shí)用新型涉及一種碳化硅還原罐出模翻轉裝置,屬于碳化硅還原罐生產(chǎn)機械領(lǐng)域,包括設置在機座上的機架,本技術(shù)要點(diǎn)在于機座與機架之間呈L形結構,在機架上通過(guò)轉

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本實(shí)用新型涉及海綿鐵生產(chǎn)過(guò)程中的碳化硅還原罐,尤其涉及一種碳化硅還原罐成型模具。 背景技術(shù): 碳化硅還原罐具有導熱系數高,耐火性能穩定,耐急熱、急

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