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      蒸發(fā)鍍膜設備單晶氮化硅(α-SiN)納米線(xiàn)的制備及其光學(xué)性能-豆丁網(wǎng)閱讀文檔頁(yè)-上傳時(shí)間:年月日單晶氮化硅(α-SiN)納米線(xiàn)的制備及其光學(xué)性能來(lái)源:蒸發(fā)鍍膜設備編acd整理。介紹了用一種簡(jiǎn)單的氣相合成方法制備出了大量高純單晶氮化硅(α-SiN)納米線(xiàn),所形成的納。

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      氮化硅燒結設備年月日-前言:氮化硅、氮化物陶瓷等工業(yè)陶瓷的燒結,一般不外乎是傳統的箱式氣氛爐,筆者關(guān)于燒結特種陶瓷的窯爐設備做以下詳細介紹。前言:近。

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      氮化硅_百科氮化硅是一種重要的結構陶瓷材料。它是一種超硬物質(zhì),本身具有潤滑性,并且耐磨損,為原子晶體;高溫時(shí)抗氧化。而且它還能抵抗冷熱沖擊,在空氣中加熱到。詳情>>歷史-晶體結構和特。-合成方法-全部

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      氮化硅干法刻蝕工藝設備模型的試驗與測量--《微電子學(xué)》年期通過(guò)對氮化硅薄膜干法刻蝕工藝實(shí)驗結果的測量,得到硅片表面非均勻性分布的具體測量數據,并對這種現象的成因進(jìn)行了定性的理論分析,為下一步建立刻蝕工藝設備模型準備了。

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      蝕刻氮化硅薄膜的設備及方法且該磷酸槽盛裝有磷酸液;接著(zhù)控制注入磷酸液中的水的水溫;將一表面已形成有一氮化硅薄膜的晶圓浸入上述設備的磷酸槽中,以進(jìn)行氮化硅薄膜的蝕刻,以解決晶圓上發(fā)現凹陷。

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      低壓燃燒合成氮化硅或氮化硅鐵的方法及設備_查詢(xún)_下載_??刂频獨鈮毫?~Mpa,并在℃~℃之間進(jìn)行連續或間斷燃燒合成;d)將燃燒合成后的氮化硅或氮化硅鐵自然冷卻或強制冷卻,再經(jīng)球磨機、振動(dòng)磨機或其它磨碎設備制。

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      一種制造高純度超細氮化硅的方法及設備一種制造高純度超細氮化硅的方法及設備,其特征是硅烷和氨氣的氣相化學(xué)反應是在立式雙溫區流態(tài)反應器中進(jìn)行,該反應器流態(tài)床底部設有不銹鋼制造的分配板,載體填料。

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      PECVD氮化硅設備考慮和應用--《微電子學(xué)與計算機》年期氮化硅膜射頻頻率及硅烷的試驗過(guò)程。確定了適合于大面積電路鈍化膜的設備條件.過(guò)去,在硅器件的制造過(guò)程中,器件上的絕緣膜是采用高溫工藝制備的。然而,由于高溫加。

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